- [鑫海(hǎi)森動態]91污视频在线观看為你講解高精度蝕刻(kè)技術:反應離子蝕刻(kè)2017年05月23日 10:45
- 反應離子(zǐ)蝕(shí)刻技術是一種物理化學工藝過程(chéng)。化學反(fǎn)應氣體(自由基、離子)與待除去的銅箔反應。生成一種揮發性氣體化合(hé)物,它很容易(yì)從此(cǐ)表麵上抽(chōu)吸掉。反應等離子蝕刻是有選擇性的(de),優先與要去除的銅箔發生反應,但不與保護膠發生(shēng)反應。反(fǎn)應離子(zǐ)蝕刻可(kě)以是全方位的(de)(各(gè)向同性),也可以是有方(fāng)向性的(各向異性),取決於使用的等離(lí)子(zǐ)條件。當然(rán),在高精度的製(zhì)造場合,我們選取的是其(qí)各向異性的特征(zhēng)。該蝕刻方式不僅蝕刻精度高,而且蝕刻速率快(每分鍾蝕刻銅箔的速率為幾千埃),是最為理想的(de)高精度時刻方式。
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