- [91污视频在线观看動態]91污视频在线观看為你講解(jiě)高精度蝕刻技術:反應離子(zǐ)蝕刻2017年(nián)05月23日 10:45
- 反應離子蝕刻(kè)技術是一種物理化學工藝過程。化學反應氣體(自由基、離子)與待除去的銅(tóng)箔反應。生成(chéng)一種揮發性氣體(tǐ)化合物,它很容易從此表麵上抽吸掉。反應等離子蝕刻是有選擇性的,優先與要去(qù)除的銅箔發生反應,但(dàn)不與保護膠發生反應。反應離子蝕刻可以是全方位(wèi)的(de)(各向同性),也(yě)可(kě)以是有方向性(xìng)的(各向異性),取決於使用的等離子條件。當然(rán),在高精(jīng)度的製造場合,我們(men)選取的是其各向異性的(de)特(tè)征。該蝕刻方式不僅蝕刻精度高,而且蝕(shí)刻速率快(每分鍾蝕刻銅箔的速率為幾千埃),是最為理想的高精度時刻方式。
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