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瀏覽:- 發布日期:2017-05-23 10:37:12【

通常所指蝕刻也稱光化學蝕刻(photochemical etching),指通過(guò)曝光製(zhì)版、顯影後,將要蝕刻區域的保(bǎo)護膜去除,在蝕刻時接觸化學溶液,達到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。

最早可用來製造銅(tóng)版(bǎn)、鋅版等印刷凹凸版,也廣泛地被使用於減輕重量 (Weight Reduction)儀器(qì)鑲板,銘牌及傳統加工法難以加工之(zhī)薄形工件等的(de)加(jiā)工;經(jīng)過不斷改良和工藝設備發展(zhǎn),亦可以用於航空、機械、化學工業中電子薄片零件精(jīng)密蝕刻產品(pǐn)的加工,特別在半導體製程上(shàng),蝕刻更是(shì)不可或缺的技術。

蝕(shí)刻

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