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通常所指蝕刻也稱光化學蝕刻(photochemical etching),指通過曝光製版、顯影後,將要蝕刻區域的保護膜去除,在蝕刻時接觸化學(xué)溶液,達到溶(róng)解腐蝕的作用,形成(chéng)凹(āo)凸或者鏤空成型的效果。

最早(zǎo)可用(yòng)來製造(zào)銅(tóng)版、鋅版等印刷凹凸版,也廣(guǎng)泛地被使用於減輕重(chóng)量 (Weight Reduction)儀器鑲板,銘(míng)牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等的加工;經過不斷改良和工藝設備發展,亦可以用於(yú)航空(kōng)、機械、化學工業中(zhōng)電子薄片零件精密蝕刻產品的加工,特(tè)別在半導體製程上,蝕刻更(gèng)是不(bú)可或缺的技術。

蝕(shí)刻

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